虽然技术障碍已不存在，但设备障碍却依旧是永远的痛。
华芯国际采用的海外设备占比超过90％，国产化率只有不到10％，如果全部使用国产设备，华芯国际也只能生产90nm级别的芯片……
90nm芯片，那是造车的，不是造手机的！
而制约华芯国际最重要的设备，叫做光刻机！
光刻机是生产芯片的关键，也是国内半导体产业升级道路上急需攻克的难点。
目前，全世界主流的光刻机分为两种，一种是DUV光源，一种是EUV光源。
其中EUV光刻机采用高能紫外线，可以获得更高的效率和良品率。
相比之下，DUV光刻机则需要反复多次曝光、用数量换取质量，才有可能达到EUV光刻机的精度。
但反复曝光，却会使得产品良品率大幅度降低，同时生产成本大幅度提高。
造一台光刻机有多难呢？
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